-
Keramik Ersatzdeeler fir Hallefleiter-Sondenausrüstung
Duerch kal isostatesch Pressen a Sinter bei héijer Temperatur, duerno präzis veraarbecht a poléiert, kënnen déi keramesch Ersatzdeeler all streng Ufuerderunge vun Hallefleederausrüstung erfëllen mat hire Charakteristike wéi Verschleißbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, gerénger thermescher Expansioun an Isolatioun. Keramik kann a ville Aarte vun Hallefleederproduktiounsausrüstung ënner Bedingunge vun héijer Temperatur, Vakuum oder korrosivem Gas fir eng laang Zäit funktionéieren.
Gemaach aus héichreinem Aluminiumoxidpulver, veraarbecht duerch kal isostatesch Pressen, Héichtemperatursinteren a Präzisiounsveraarbechtung, kann et eng Dimensiounstoleranz vun ±0,001 mm erreechen, eng Uewerflächenfinish Ra 0,1 an eng Temperaturbeständegkeet vun 1600 ℃.
-
Keramikplack Hallefleiter Ausrüstungsträger
Duerch kal isostatesch Pressen a Sinter bei héijer Temperatur, duerno präzis veraarbecht a poléiert, kënnen déi keramesch Ersatzdeeler all streng Ufuerderunge vun Hallefleederausrüstung erfëllen mat hire Charakteristike wéi Verschleißbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, gerénger thermescher Expansioun an Isolatioun. Keramik kann a ville Aarte vun Hallefleederproduktiounsausrüstung ënner Bedingunge vun héijer Temperatur, Vakuum oder korrosivem Gas fir eng laang Zäit funktionéieren.
Gemaach aus héichreinem Aluminiumoxidpulver, veraarbecht duerch kal isostatesch Pressen, Héichtemperatursinteren a Präzisiounsveraarbechtung, kann et eng Dimensiounstoleranz vun ±0,001 mm erreechen, eng Uewerflächenfinish Ra 0,1 an eng Temperaturbeständegkeet vun 1600 ℃.
-
Ersatzdeeler fir Keramik fir Hallefleiterausrüstung
Duerch kal isostatesch Pressen a Sinter bei héijer Temperatur, duerno präzis veraarbecht a poléiert, kënnen déi keramesch Ersatzdeeler all streng Ufuerderunge vun Hallefleederausrüstung erfëllen mat hire Charakteristike wéi Verschleißbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet, gerénger thermescher Expansioun an Isolatioun. Keramik kann a ville Aarte vun Hallefleederproduktiounsausrüstung ënner Bedingunge vun héijer Temperatur, Vakuum oder korrosivem Gas fir eng laang Zäit funktionéieren.
Gemaach aus héichreinem Aluminiumoxidpulver, veraarbecht duerch kal isostatesch Pressen, Héichtemperatursinteren a Präzisiounsveraarbechtung, kann et eng Dimensiounstoleranz vun ±0,001 mm erreechen, eng Uewerflächenfinish Ra 0,1 an eng Temperaturbeständegkeet vun 1600 ℃.
-
Héichreinheetsaluminiumoxid-Keramik-Dichtungsring fir Héichtemperaturkammerdichtung
De Keramik-Dichtungsring vu St.Cera ass als Alternativ zu Polymer-O-Réng an extremen Ëmfeld entwéckelt, wou Elastomere sech ofbauen. Dëse steife Dichtungsring, deen aus 99,8% héichreinem Aluminiumoxid (Al₂O₃) hiergestallt gëtt, gëtt a statesche Dichtungsapplikatiounen agesat - typescherweis a Kombinatioun mat enger mëller Metall- oder Graphitdichtung - fir eng zouverlässeg Vakuum- oder Gaseinhaltung bei Temperaturen bis zu 800°C an an aggressiven Plasma- oder chemeschen Ëmfeld ze garantéieren. D'Material bitt keng Ausgasung, eng héich Drockfestigkeit (ënnerläit Biegefestigkeit 361 MPa) a chemesch Inertitéit (resistent géint Halogenen, Säuren an Alkalien ausser HF). Präzisiounsgeschliffene Dichtungsflächen (Flaachheet ≤5 μm, Uewerflächenrauheet Ra ≤0,2 μm) garantéieren e leckdichte Kontakt mat de passenden Metall- oder Keramikkomponenten.
-
Fokusring vun der héichreineger Aluminiumoxidkammer fir Plasmaätz- a CVD-Systemer
De Fokusring vum St.Cera-Kammer ass eng wichteg Komponent vum Prozesskit, déi a Plasmaätzungs-, CVD- a PVD-Hallefleederausrüstung benotzt gëtt. De Rank, deen aus 99,8% héichreinegem Aluminiumoxid (Al₂O₃) hiergestallt gëtt, ëmgëtt de Waferrand fir de Plasma anzeschléissen an d'Ionenwénkelverdeelung ze optimiséieren, wouduerch d'Ätzuniformitéit iwwer d'Waferuewerfläch verbessert gëtt. D'Material bitt aussergewéinleche Plasmawiderstand, héich dielektresch Stäerkt (15×10⁶ V/m) an thermesch Stabilitéit bis zu 1600°C, wat eng laangfristeg Zouverlässegkeet an aggressiven Fluor- oder Chlor-baséierte Plasmaëmfeld garantéiert. Präzisiounsgeschliffene ID/OD a Flaachheet (≤10 μm) erméiglechen eng genee Positionéierung vum Waferrand, wat Kantdefekter a Partikelgeneratioun reduzéiert.
-
Héichreine Aluminiumoxid Keramikring fir CVD / PVD Prozesskammeren
De Keramikrank vu St.Cera ass speziell fir de Gebrauch a CVD (Chemical Vapor Deposition) a PVD (Physical Vapor Deposition) Prozesskammeren entwéckelt. Dëse Rank, deen aus 99,8% héichreinegem Aluminiumoxid (Al₂O₃) hiergestallt gëtt, déngt als Kammerausschluss, Fokusrank oder Prozesskitkomponent fir de Plasma ofzesécheren an d'Kammerkabänner virun Erosioun ze schützen. D'Material bitt exzellente Plasmawiderstand, héich dielektresch Stäerkt (15×10⁶ V/m) an thermesch Stabilitéit bis zu 1600°C, wat eng laang Liewensdauer an aggressiven fluorbaséierte Plasmaëmfeld garantéiert. Präzis Dimensiounstoleranzen (±0,05 mm op der bannenzeger/bannenzeger Temperatur) a Flaachheet (≤10 μm) erméiglechen eng konsequent Waferkantpositionéierung, verbessert d'Oflagerungsuniformitéit an reduzéiert d'Partikelgeneratioun.
-
Bernoulli Keramik-Endeffektor — Kontaktlos Waferbehandlung fir dënn a fragil Waferen
De Bernoulli Keramik-Endeffektor vu St.Cera benotzt en aerodynamesche Lift fir Waferen ouni kierperleche Kontakt ze behandelen. Hie besteet aus héichreinem 99,8% Aluminiumoxid (Al₂O₃) oder Siliziumcarbid (SiC) a verfüügt iwwer präzis veraarbechte Düsen, déi Drockgas ausstoussen, fir e dënne Loftfilm tëscht dem Endeffektor an dem Wafer ze kreéieren. Dëst kontaktlos Prinzip eliminéiert Kontaminatioun op der Récksäit, Ofsplitterungen um Rand a Schued un der Uewerfläch, wat en ideal fir dënn (≤100 μm), fragil oder verzerrt Waferen mécht. De Keramiksubstrat bitt eng héich Biegefestigkeit (361 MPa fir Al₂O₃; bis zu 550–600 MPa fir SiC), eng niddreg Mass an eng exzellent Dimensiounsstabilitéit, wat eng widderhuelbar Positionéierung a Schnellwafertransferroboter garantéiert.
-
Héichreinheets-Aluminiumoxid-Keramikdeeler fir Hallefleiter- & Industrieanwendungen
St.Cera produzéiert präzis veraarbechten Aluminiumoxid (Al₂O₃) Keramikdeeler no Clientspezifikatioune. Mat 99,8% héichreinem Aluminiumoxid liwweren dës Komponenten eng exzellent Biegefestigkeit (361 MPa), eng héich Häert (16 GPa) an eng aussergewéinlech dielektresch Festigkeit (15×10⁶ V/m). Dëst Material, dat fir Hallefleederausrüstung, verschleißbeständeg Baugruppen, elektresch Isolatoren an Héichtemperaturarmaturen entwéckelt gouf, bitt eng bal null Waasserabsorptioun (0%) an en thermeschen Ausdehnungskoeffizient vu 7,2×10⁻⁶/℃, wat eng dimensional Stabilitéit ënner extremen Bedéngungen garantéiert.
-
Porös Keramik Vakuumfutter fir Verzerrte Waferbehandlung
De poröse Keramikfutter vu St.Cera ass aus héichreinegem Aluminiumoxid mat enger gläichméisseger oppener Porositéit vun 30–45% a Poregréissten tëscht 10 an 100 μm hiergestallt. Am Géigesaz zu konventionelle gerillte Futteren suergt déi poréis Uewerfläch fir e verdeelte Vakuum iwwer déi ganz Récksäit vum Wafer, wouduerch kromm, dënn oder eenzel Wafer effektiv ouni Randofhiewen oder Broch festgehale ginn. De sanfte Vakuum (justierbar iwwer e Restriktiounsmechanismus) verhënnert och Markéierungen op der Récksäit.
-
Porös Keramik-Vakuumfutter op Aluminiumbasis fir d'Handhabung vun dënnen Waferen
De poröse Spannfutter op Aluminiumoxidbasis vu St.Cera gëtt aus 99,6% héichreinegem Al₂O₃ mat enger kontrolléierter oppener Porositéit vun 30–45% an enger gläichméisseger Poregréisst vun 10 bis 50 μm hiergestallt. Am Géigesaz zu gerillte Spannfuttern suergt déi poréis Uewerfläch fir e verdeelt Vakuum iwwer déi ganz Récksäit vum Wafer, wouduerch d'Kantemarkéierung eliminéiert gëtt an ultradënn (≤100 μm) oder verzerrte Wafere sanft festgehale kënne ginn. D'Material bitt eng Biegefestigkeit vun ≥250 MPa an eng thermesch Stabilitéit bis zu 400°C an der Loft.
-
Aluminiumoxid-Gasverdeelerplack fir CVD/PVD-Duschkapp
D'Gasverdeelerplack (Duschkapp) vu St.Cera ass präzis aus héichreinem 99,8% Aluminiumoxid-Keramik verschafft. Si huet eng Rei vu Mikrolächer (Duerchmiesser 0,3–1,5 mm), déi e gläichméissege Gasfloss iwwer d'Waferuewerfläch während CVD-, PVD- oder ALD-Prozesser garantéieren. Déi héich dielektresch Stäerkt vun der Plack (>15×10⁶ V/m) an de Plasmawiderstand maachen se essentiell fir d'Dënnschichtoflagerung a Hallefleeder.
-
Keramik-Ënnerstëtzungsstift fir Halbleiterprozessarmaturen
Keramik-Stützstifte (och bekannt als Liftstifte oder Supportstifte) vu St.Cera ginn a Hallefleiterprozesskammeren benotzt fir Waferen oder Substrate beim Ëmgang, Heizung oder Ofkillung ze hiewen. Dës Stifte gi mat 99,8% Aluminiumoxid oder Siliziumnitrid hiergestallt a bidden eng héich Drockfestigkeit, thermesch Stabilitéit a chemesch Resistenz. Den halbkugelfërmegen oder flaache Spëtzdesign verhënnert Kratzer op de Waferen.
