Fokusring vun der héichreineger Aluminiumoxidkammer fir Plasmaätz- a CVD-Systemer

De Fokusring vum St.Cera-Kammer ass eng wichteg Komponent vum Prozesskit, déi a Plasmaätzungs-, CVD- a PVD-Hallefleederausrüstung benotzt gëtt. De Rank, deen aus 99,8% héichreinegem Aluminiumoxid (Al₂O₃) hiergestallt gëtt, ëmgëtt de Waferrand fir de Plasma anzeschléissen an d'Ionenwénkelverdeelung ze optimiséieren, wouduerch d'Ätzuniformitéit iwwer d'Waferuewerfläch verbessert gëtt. D'Material bitt aussergewéinleche Plasmawiderstand, héich dielektresch Stäerkt (15×10⁶ V/m) an thermesch Stabilitéit bis zu 1600°C, wat eng laangfristeg Zouverlässegkeet an aggressiven Fluor- oder Chlor-baséierte Plasmaëmfeld garantéiert. Präzisiounsgeschliffene ID/OD a Flaachheet (≤10 μm) erméiglechen eng genee Positionéierung vum Waferrand, wat Kantdefekter a Partikelgeneratioun reduzéiert.

Spezifikatiounen(baséiert op 99,8% Al₂O₃):

Uwendungen:

• · Fokusréng vun der dielektrescher Ätzkammer (Oxid-, Nitrid-Ätz)
• · Silikon-Ätzkammer-Randréng
• · CVD-Kammerprozess-Kit-Réng
• · PVD-Kammerschëld a Klemmréng

Fabrikatiounsprozess:

Héichreinheets-Aluminiumoxidpulver gëtt isostatesch gepresst → gréng bis zur bal definitiver Form veraarbecht → bei 1600°C gesintert → CNC-Diamantschleifen vun der Innendiameter, der Ausdehnungsdiameter an der Déckt → Läppen fir eng Flaachheet ≤10 μm z'erreechen → Ultraschallreinigung → 100% CMM-Inspektioun. Uewerflächenfinish Ra ≤0,4 μm miniméiert d'Partikelhaftung.

Qualitéitskontroll:

• · 100% Dimensiounsinspektioun (Innere Duerchmiesser, Ausdehnung Duerchmiesser, Déckt, Parallelitéit)
• · Faarfpenetratiounstest op Mikrorëss (keng Rëss erlaabt)
• · Visuell Inspektioun ënner engem 20× Mikroskop — keng Ofschielungen, Lächer oder Verfärbungen
• · Dielektresch Stäerktstest no ASTM D149 (Proufnahme)

Virdeeler géintiwwer Silizium- oder Quarz-Fokusréng:

• · 5–10x méi laang Liewensdauer am Fluorcarbonplasma
• · Keng verbrauchbar Erosiounspartikelen, déi d'Waferen kontaminéieren
• · Eng méi héich dielektresch Stäerkt verhënnert Béibildung
• · Erhält Flaachheet a dimensional Genauegkeet iwwer Dausende vun RF Stonnen

Alternativt Material — Yttrium-stabiliséiert Zirkoniumdioxid (ZrO₂):

Fir Uwendungen, déi eng méi héich Bruchstäerkt erfuerderen (z. B. Chamberen mat heefegen thermesche Zyklen oder mechanesche Schocken), sinn ZrO₂ Fokusréng (Dicht 6,03 g/cm³, Biegefestigkeit 1000 MPa, Bruchstäerkt 5–8 MPa·m¹/²) verfügbar. Aluminiumoxid bitt awer eng besser Käschteeffizienz an ass den Industriestandard fir déi meescht Fokusréngapplikatiounen.

Personnalisatioun:

• · Stufenprofiler, Verzéihungen oder Montagelächer no Zeechnung vum Client
• · Y₂O₃ Beschichtung fir verbessert Plasmaerosiounsbeständegkeet (Déckt 20–100 μm)
• · Lasermarkéierung vun der Deelnummer, dem Datumscode oder den Ausriichtungsmarkéierungen

Bemierkung:All Donnéeën entspriechen strikt der geliwwerter Al₂O₃-Eegeschaftstabell. Fir ZrO₂-Spezifikatioune kuckt w.e.g. dat geliwwert Zirkoniumdioxid-Datenblat. Fokusringdesigns kënnen eng Patentgenehmigung erfuerderen - d'Clienten sinn verantwortlech fir d'Iwwerpréiwung vun intellektuellen Eegentumsrechter.