Héichreine Aluminiumoxid Keramikring fir CVD / PVD Prozesskammeren
De Keramikrank vu St.Cera ass speziell fir de Gebrauch a CVD- (Chemical Vapor Deposition) a PVD- (Physical Vapor Deposition) Prozesskammeren entwéckelt. Dëse Rank, deen aus 99,8% héichreinegem Aluminiumoxid (Al₂O₃) hiergestallt gëtt, déngt als Kammerausschluss, Fokusrank oder Prozesskitkomponent fir de Plasma ofzesécheren an d'Kammerkabänner virun Erosioun ze schützen. D'Material bitt exzellente Plasmawiderstand, héich dielektresch Stäerkt (15×10⁶ V/m) an thermesch Stabilitéit bis zu 1600°C, wat eng laang Liewensdauer an aggressiven fluorbaséierte Plasmaëmfeld garantéiert. Präzis Dimensiounstoleranzen (±0,05 mm op der bannenzeger/bannenzeger Temperatur) a Flaachheet (≤10 μm) erméiglechen eng konsequent Waferkantpositionéierung, verbessert d'Oflagerungsuniformitéit an reduzéiert d'Partikelgeneratioun.
Spezifikatiounen (baséiert op 99,8% Al₂O₃):
| Immobilie | Wäert |
| Material | 99,8% Aluminiumoxid (Elfebeen) |
| Dicht | 3,93 g/cm³ |
| Waasserabsorptioun | 0% |
| Biegfestigkeit | 361 MPa |
| Bruchstähigkeit | 3–4 MPa·m¹/² |
| Vickers-Härkeet | 16 GPa |
| Young säi Modul | 380 GPa |
| Wärmeleitfäegkeet | 32 W/m·k |
| Thermesch Expansioun (25–1000°C) | 7,2 × 10⁻⁶/℃ |
| Dielektresch Stäerkt | 15×10⁶ V/m |
| Spezifesche Widderstand | >10¹⁴ Ω·cm |
| Maximal Betribstemperatur | 1600°C |
Uwendungen:
- · Fokusréng a Kantréng vu CVD-Kammeren
- · PVD-Kammerschutzringen a Klemmringen
- · Kammerauskleeder a Deckelréng ätzen
- · Plasma-Inngrenzungsréng an dielektreschen Ätzsystemer
Fabrikatiounsprozess:
Isostatescht Pressen → gréng Bearbechtung → Sinteren bei 1600°C → CNC-Inden-/Oden-Schleifen → Uewerflächenläppen → Ultraschallreinigung → 100% CMM-Inspektioun. Ultraglat Uewerflächenqualitéit (Ra ≤0,4 μm) miniméiert d'Partikelhaftung.
Qualitéitskontroll:
- · 100% Dimensiounskontroll (Innere Duerchmiesser, Ausdehnung Duerchmiesser, Déckt, Flaachheet)
- · Inspektioun vum Faarfstoffpenetrant op Mikrorëss an der Uewerfläch
- · Dielektresch Stäerktstest no ASTM D149
- · Keng siichtbar Verfärbung oder Porositéit ënner engem 20× Mikroskop
Virdeeler géintiwwer Metall- oder Quarzréng:
- · 5–10x méi laang Liewensdauer wéi Aluminiumréng am Fluorplasma
- · Keng Metallkontaminatioun an dënne Schichten
- · Méi héije Plasmawiderstand wéi Quarz (keng Erosiounsgrouwen)
- · Erhält elektresch Isolatioun >10¹⁴ Ω·cm och no laanger Benotzung
Alternativt Material — Siliziumnitrid (Si₃N₄):
Fir Uwendungen, déi nach méi héich Bruchsehäft (6,2 MPa·m¹/²) a besser Widderstandsfäegkeet géint Wärmeschock (Expansiounskoeffizient 3,2×10⁻⁶/℃) erfuerderen, si Si₃N₄-Réng verfügbar. Aluminiumoxid ass awer fir déi meescht CVD/PVD-Uwendungen méi kosteneffektiv. Gitt w.e.g. Är Materialpräferenz bei der Bestellung un.
Personnalisatioun:
- · Duerchgängeg Lächer, Gestufeprofiler oder Verzéihungen fir d'Montage
- · Y₂O₃-beschichtete Uewerfläch fir verbesserte Plasmawiderstand (optional)
- · Lasergravur vun der Deelnummer / Lotcode
Bemierkung:Déi uewe genannten Donnéeën entspriechen strikt der geliwwerter Al₂O₃-Eegeschaftstabell. Fir Si₃N₄-Réng, kuckt w.e.g. dat separat Si₃N₄-Datenblat, dat geliwwert gëtt.
