Aluminiumoxid-Gasverdeelerplack fir CVD/PVD-Duschkapp
D'Gasverdeelerplack (Duschkapp) vu St.Cera ass präzis aus héichreinem 99,8% Aluminiumoxid-Keramik verschafft. Si huet eng Rei vu Mikrolächer (Duerchmiesser 0,3–1,5 mm), déi e gläichméissege Gasfloss iwwer d'Waferuewerfläch während CVD-, PVD- oder ALD-Prozesser garantéieren. Déi héich dielektresch Stäerkt vun der Plack (>15×10⁶ V/m) an de Plasmawiderstand maachen se essentiell fir d'Dënnschichtoflagerung a Hallefleeder.
Spezifikatiounen:
| Immobilie | Wäert |
| Material | 99,8% Al₂O₃ oder SiC |
| Duerchmiesser | 100 – 1500mm (ronn) oder rechteckeg |
| Déckt | 5 – 20 mm |
| Lachduerchmiesser | 0,3 – 1,5 mm |
| Lächermuster | Benotzerdefinéiert (dräieckeg, véiereckeg, radial) |
| Flaachheet | ≤10 μm iwwer déi ganz Fläch |
| Uewerflächenrauheet | Ra ≤0,6 μm (Gassäit) |
| Verhältnis vun oppene Flächen | 5–15% |
Uwendungen:
PECVD Duschkappplacken
ALD Gasinjektoren
Gasverdeelungsplacken fir Ätzkammeren
MOCVD Reaktorkomponenten
Produktioun:
Aluminiumoxid-Substrat flaach iwwerlappt → CNC-Buerung mat diamantbeschichteten Tools (Lochpositiounstoleranz ±0,02 mm) → Entgraten → Ultraschallreinigung → Verpackung vun der Klass 100.
Qualitéitskontroll:
All Plack gëtt zu 100% op Lachgréisst (Visiounssystem), Flaachheet (Laserinterferometer) a Gasflussuniformitéit (Drockmapping) iwwerpréift. Keng Mikrorëss ënner engem 20x Mikroskop.
Virdeeler géintiwwer Metallplacken:
Keng metallesch Kontaminatioun an dënne Schichten
Manner Partikelbildung (keng Korrosiounsflacken)
Hält aggressiven Reinigungsplasmaen (CF₄, NF₃) stand
Benotzerdefinéiert Funktiounen:
Récksäiteg Gaskanäl, Verdichtungslucher, Kantdichtung a verschidde Materialqualitéiten (SiC fir méi héich Wärmeleitfäegkeet, Y₂O₃ Beschichtung fir Plasmawiderstand).
Mir bidden CAD-Verifizéierung a Flow-Simulatioun virun der Produktioun.
