Aluminiumoxid PVD Isolatiounsring fir physikalesch Dampfdepositiounssystemer

De PVD-Isolatiounsrank vu St.Cera gëtt aus 99,8% héichreinegem Aluminiumoxid (Al₂O₃) fir de Gebrauch a physikalesche Gasoflagerungssystemer (PVD) hiergestallt. De Rank bitt elektresch Isolatioun tëscht de Kammerkomponenten, verhënnert Béibildung a garantéiert e stabile Plasmabetrieb. Schlësseleegeschafte sinn eng héich dielektresch Stäerkt (15×10⁶ V/m), e spezifesche Widderstand >10¹⁴ Ω·mm²/m an eng thermesch Stabilitéit bis zu 1600°C. Eis Präzisiounsbearbechtungsméiglechkeeten erreechen äusseren Duerchmiesser bis zu 600 mm, bannenzegen Duerchmiesser bis zu 0,2 mm, eng Flaachheet vun 0,003 mm an eng Uewerflächenfinish Ra0,1. Déi null Porositéit an déi chemesch Inertitéit vum Rank garantéieren eng laangfristeg Zouverlässegkeet an aggressiven Sputterungsumgebungen.

Spezifikatiounen (baséiert op 99,8% Al₂O₃& St.Cera Produktiounskapazitéiten):

Uwendungen:

• · Zil-Basisolatoren fir Réckplacken a PVD-Systemer
• · Duerchgangsisolatoren fir d'Kammer
• · Schëldringisolatoren a Sputtersystemer
• · Héichspannungsisolatioun a Plasmakammeren

Produktiounspräzisioun:

Konzentrizitéit: 0,01 mm, Ronnheet: 0,002 mm, Geriichtheet: 0,005 mm, Senkrechtheet: 0,005 mm, verifizéiert vum CMM.

AVirdeeler géintiwwer Polymerisolatoren:

• · Hält 1600°C stand am Verglach zu der Limit vun <300°C vum Polymer
• · Keng Ausgasung – erhält d'Integritéit vum Vakuum
• · Widderstand géint Plasmaerosioun a chemeschen Attacken

Personnalisatioun:

Benotzerdefinéiert Querschnitter, Montagefeatures, Stufenprofiler a verschidde konzentresch Réngdesignen verfügbar.